(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(21)申请号 CN200580021181.5 (22)申请日 2005.06.24
(71)申请人 皇家飞利浦电子股份有限公司
地址 荷兰艾恩德霍芬
(10)申请公布号 CN1973213A (43)申请公布日 2007.05.30
(72)发明人 B·施维瑟;G·沃格特梅尔;K·J·恩格尔 (74)专利代理机构 中国专利代理()有限公司
代理人 李亚非
(51)Int.CI
G01T1/1;
权利要求说明书 说明书 幅图
(54)发明名称
具有散射辐射校正的X射线探测器
(57)摘要
本发明涉及X射线装置、X射线探测器和
校正强度信号的方法。一种X射线探测器于是包括:用于确定X射线的强度(其包括具有辐照方向的原辐射部分和散射辐射部分)的至少第一传感器元件和第二传感器元件,它们均被提供以用于将X射线转换成第一和第二强度信号;以及滤波元件,其被提供以用于减小在X射线强度中散射辐射的比例,其中第二传感器元件沿辐照方向被布
置在滤波元件后面,以及其中固定到滤波元件上的第一传感器元件被提供以用于确定离开滤波元件之前X射线的强度。从第一和第二传感器元件的测量数据计算的散射辐射的比例被提供以用于校正用于后续图像生成的第二强度信号。
法律状态
法律状态公告日
2007-05-30 2007-08-29 2010-09-29
法律状态信息
公开
实质审查的生效 授权
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公开
实质审查的生效 授权
权利要求说明书
具有散射辐射校正的X射线探测器的权利要求说明书内容是....请下载后查看
说明书
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