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专利名称：一种基于金属网栅的透明电磁屏蔽材料的制备方法专利类型：发明专利
发明人：罗先刚,马晓亮,蒲明博,梁卓承,赵泽宇申请号：CN201911068114.9申请日：20191105公开号：CN110831419A公开日：20200221
摘要：本发明公开一种基于金属网栅的透明电磁屏蔽材料的制备方法，包括步骤S1：在透明衬底上镀制金属薄膜；步骤S2：在金属薄膜上旋涂光刻胶；步骤S3：通过光刻技术获得网栅形状的光刻胶；步骤S4：利用离子束刻蚀(IBE)的阴影效应，在大角度离子束入射的模式下将光刻胶图形的线宽进行缩减；步骤S5：将光刻胶的图形传递至金属层；步骤S6：浸泡在丙酮中去除光刻胶，获取基于金属网栅的透明电磁屏蔽材料。本发明提出的缩减线宽方法也可用于减小二维周期性结构材料的特征尺寸。本发明最终能有效地减小金属网栅的线宽，从而进一步提高材料的光透过率，为基于金属网栅、亚微米特征尺寸的透明电磁屏蔽材料提供一种简易、廉价的制备方法。
申请人：中国科学院光电技术研究所
地址：610209 四川省成都市双流350信箱
国籍：CN
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