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专利名称：一种回流方式冷却的高稳定性二氧化碳激光器专利类型：实用新型专利发明人：殷卫援
申请号：CN201320819413.3申请日：20131213公开号：CN203607669U公开日：20140521
摘要：本实用新型涉及激光器领域，特别涉及一种回流方式冷却的高稳定性二氧化碳激光器，包括由外向内依次套设的储气管、水冷管和放电管，所述储气管两端分别设置有反射镜片和输出镜片，所述储气管上设置有与所述水冷管相接通的进水管和出水管，所述水冷管为包括有内层水冷管和外层水冷管的双层结构，所述内层水冷管与所述外层水冷管接通，所述进水管和出水管分别与所述内层水冷管和外层水冷管接通，所述进水管与所述出水管设置在所述水冷管的同一端。由于进水管和出水管的变形对储气管圆柱度的影响降低，所以可以使用恒温精度较低的恒温装置，进而降低成本；甚至可以直接省去恒温装置，进一步的降低成本。
申请人：成都微深科技有限公司
地址：611731 四川省成都市高新技术开发区西区迪康大道38号
国籍：CN
代理机构：四川力久律师事务所
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