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专利名称：用来照射紫外线的掩膜架专利类型：发明专利
发明人：卞溶相,朴武烈,丁圣守申请号：CN03103033.5申请日：20030128公开号：CN1439916A公开日：20030903
摘要：本发明中公开了一种照射紫外线的掩膜架。该掩膜架包括：一下部，它有一框架和支撑一掩膜的掩膜支撑部件，其中该掩膜支撑部件在该框架内并且具有多个第一连接部分；和一上部，它有与第一连接部分对齐的多个第二连接部分。
申请人：LG.菲利浦LCD株式会社
地址：韩国汉城
国籍：KR
代理机构：北京律诚同业知识产权代理有限公司
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